नैनो आर्किटेक्ट वाष्प कार्बन सुदृढीकरण के साथ क्वांटम शील्ड्ड पॉलीयामाइड इमाइड फिल्म

सामग्री क्रांति

यह क्वांटम-वर्धित GC50-X पॉलीमाइड फिल्म सतह इंजीनियरिंग में एक मौलिक सफलता का प्रतिनिधित्व करती है, उपयोग करते हुएबहुआयामी वाष्प-कार्बन नैनोस्ट्रक्चरिंगऔरक्वांटम-कॉन्फिनेटेड डायमंडोइड सुदृढीकरणप्राप्त करना70% उच्च सतह कठोरता(12h पेंसिल कठोरता) और65% बेहतर पहनने के प्रतिरोध में सुधार हुआबनाम पारंपरिक GC50-ग्रेड फिल्में। नैनो-आर्किट्टेड सतह परत प्रदान करता है> 99.9% बाधा दक्षतापरमाणु ऑक्सीजन, नमी और रासायनिक जंग के खिलाफ बनाए रखते हुएपूर्ण लचीलापन1 मिमी त्रिज्या पर 2,000,000+ मोड़ चक्र के माध्यम से।

मात्रा प्रदर्शन मैट्रिक्स

1। सतह सुपरफॉर्मेंस

• सतह की कठोरता: 12H पेंसिल कठोरता (ASTM D3363)

• प्रतिरोध पहन: 500% सुधार (टेबर घर्षण, सीएस -10 पहिया)

• घर्षण के गुणांक: 0.12 (80% कमी बनाम मानक पीआई)

• सतह ऊर्जा: 20-60 mn/m (गतिशील रूप से ट्यून करने योग्य)

2। बाधा उत्कृष्टता

• परमाणु ऑक्सीजन प्रतिरोध: <0.1% द्रव्यमान हानि @ 10 @ परमाणु/cm to

• नमी बाधा: <10⁻⁶ g/m @/day @ 38 ° C/90% Rh

• रासायनिक प्रतिरक्षा: ध्यान केंद्रित एसिड, सॉल्वैंट्स और अल्कलिस

• यूवी स्थिरता:> 50,000 घंटे की मौसम क्षमता

3। विद्युत श्रेष्ठता

• सतही प्रतिरोधकता: 10⁵-10⁸⁸ ω/SQ (ट्यून करने योग्य)

• ढांकता हुआ ताकत: 8.2 केवी/मिमी @ 25μM

• मात्रा प्रतिरोधकता: 10⁷ ω ω · cm @ 200 ° C

4। थर्मल प्रभुत्व

• सतत संचालन: -269 ° C से 480 ° C से

• ऊष्मीय चालकता: 1.5 w/m · k (इन-प्लेन)

• सिटे: 5.2 पीपीएम/° C (20-200 ° C)

उन्नत अनुप्रयोग

▷ एयरोस्पेस और रक्षा

• उपग्रह सतह संरक्षण परतें

• हाइपर्सोनिक वाहन थर्मल बाधाएं

• अंतरिक्ष सूट बाहरी परत एकीकरण

▷ अर्धचालक प्रसंस्करण

• चरम वातावरण वेफर वाहक

• सीवीडी प्रक्रिया संरक्षण फिल्में

• वैक्यूम चैंबर लाइनर सिस्टम

▷ औद्योगिक नवाचार

• उच्च-पहनने वाले रोबोटिक घटक सतहें

• रासायनिक प्रक्रिया डायाफ्राम सामग्री

• सटीक असर सुरक्षा परतें

तकनीकी श्रेष्ठता

नैनो-आर्किट्टेड सतह

• वाष्प-कार्बन मोटाई: 50-500nm (± 5%)

• सतह खुरदरापन: <1nm RA (मिरर फिनिश)

• पैटर्निंग क्षमता: उप-माइक्रोन फ़ीचर रिज़ॉल्यूशन

भौतिक गुण

• मोटाई: 7.5-125μM (%1%)

• तन्यता ताकत: 550 एमपीए (@25μM)

• बढ़ाव: 85% (@25μM)