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Filmauftritt: | Das Basismaterial muss eine Oberflächen gleichmäßige Atom im Bereich der Oberfläche erreichen und gl | Filmdicke (ähm): | 50 |
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Film Zugkraft: | 180 MPa | Filmdehnung bei Break: | 30% |
Film Young's Modul: | 3,5 gpa | Filmisolierung Stärke: | 220 V/μm |
Flammschutzmittel: | V-0-Stufe | Wärmeleitfähigkeit: | 1500 w/(MK) |
Hervorheben: | Quantenabgeschirmte Polyamidimidfolie,Nanoarchitektonische Polyamidimidfolie,Quanten-kupferkaschierte Polyimidfolie |
Dieser quantenverstärkte GC50-X-Polyimidfilm stellt einen grundlegenden Durchbruch in der Oberflächenentwicklung dar, die verwendet wirdMehrdimensionale Dampf-Kohlenstoff-NanostrukturierungUndQuantenkonfinierte Diamondoidverstärkungzu erreichen70% höhere Oberflächenhärte(12h Bleistifthärte) und65% verbesserte Verschleißfestigkeitgegen herkömmliche GC50-Filme. Die nanoarchitierte Oberflächenschicht liefert> 99,9% Barriereeffizienzgegen Atomsauerstoff, Feuchtigkeit und chemische Korrosion bei der Aufrechterhaltungvolle FlexibilitätDurch 2.000.000 Biegerzyklen bei 1 mm Radius.
1. Oberflächen -Superformance
Oberflächenhärte: 12h Bleistifthärte (ASTM D3363)
Resistenz tragen: 500% Verbesserung (Taber Abrieb, CS-10 Rad)
Reibungskoeffizient: 0,12 (80% Reduktion gegenüber Standard PI)
Oberflächenenergie: 20-60 mn/m (dynamisch einstellbar)
2. Barrier Excellence
Atomare Sauerstoffresistenz: <0,1% Massenverlust bei 10²⁰ Atomen/cm²
Feuchtigkeitsbarriere: <10⁻⁶ g/m²/Tag bei 38 ° C/90% relatis
Chemische Immunität: Widersteht konzentrierte Säuren, Lösungsmittel und Alkalis
UV -Stabilität:> 50.000 Stunden Wetterbarkeit
3.. Elektrische Überlegenheit
Oberflächenwiderstand: 10¹⁵-10¹⁸ ω/sq (abstimmbar)
Dielektrische Stärke: 8,2 kV/mm bei 25 μm
Volumenwiderstand: 10¹⁷ ω · cm @ 200 ° C
4. Wärme Dominanz
Kontinuierlicher Betrieb: -269 ° C bis 480 ° C
Wärmeleitfähigkeit: 1,5 W/m · k (In-Plane)
CTE: 5,2 ppm/° C (20-200 ° C)
▷ Luft- und Raumfahrt & Verteidigung
Satellitenoberflächenschutzschichten
Thermiebarrieren des Hyperschallfahrzeugs
Space -Anzug -Integration der Außenschicht
▷ Semiconductor -Verarbeitung
Extreme Umwelt Waferträger
CVD -Prozessschutzfilme
Vakuumkammer -Liner -Systeme
▷ Industrielle Innovation
Hochschwärme Roboterkomponentenoberflächen
Membranmaterial für chemische Prozesse
Präzisionslagerschutzschichten
Nano-Architierte Oberfläche
Dampf-Kohlenstoffdicke: 50-500 nm (± 5%)
Oberflächenrauheit: <1nm ra (Spiegel Finish)
Strukturierungsfähigkeit: Sub-Micron-Merkmalsauflösung
Materialeigenschaften
Dicke: 7,5-125 μm (± 1%)
Zugfestigkeit: 550 MPa (@25 μm)
Verlängerung: 85% (@25 μm)
Ansprechpartner: Jihao
Telefon: +86 18755133999
Faxen: 86-0551-68560865