Квантово защищенная полиамидная имидная пленка с наноархитектурным укреплением углеродного пара

Материальная революция

Эта квантово усиленная пленка полимида GC50-X представляет собой фундаментальный прорыв в поверхностной инженерии, используямногомерная наноструктура паров и углеродаиКвантово-ограниченное алмазное укреплениедостичь70% больше твердости поверхности(12H твердость карандаша) и65% повышенная износостойкостьНаноархитектурный поверхностный слой обеспечиваетЭффективность препятствия > 99,9%против атомарного кислорода, влаги и химической коррозии при сохраненииполная гибкостьчерез 2,000,000+ циклов изгиба в радиусе 1 мм.

Матрица квантовой производительности

1. Сверхвысокая производительность поверхности

• Твердость поверхности: твердость карандаша 12H (ASTM D3363)

• Отпор на износ: Улучшение на 500% (Абразия Табера, колесо CS-10)

• Коэффициент трения: 0,12 (80% снижение по сравнению со стандартным ПИ)

• Энергия поверхности: 20-60 мН/м (динамическая настройка)

2Превосходство барьера.

• Сопротивление кислорода: <0,1% потеря массы @ 1020 атомов/см2

• Защита от влаги: < 10−6 г/м2/день @ 38°C/90% RH

• Химический иммунитет: Устойчив к концентрированным кислотам, растворителям и щелочам

• Устойчивость к УФ-излучению: >50 000 часов устойчивость к воздействию погоды

3Электрическое превосходство.

• Сопротивляемость поверхности: 1015-1018 Ом/кв. м (настраивается)

• Диэлектрическая прочность: 8,2 кВ/мм @ 25μм

• Сопротивляемость объема: 1017 Ω·cm @ 200°C

4Термическое доминирование

• Непрерывная работа: от -269°C до 480°C

• Теплопроводность: 1,5 W/m·K (в самолете)

• КТЭ: 5,2 ppm/°C (20-200°C)

Расширенные приложения

▷ Аэрокосмическая и оборонная промышленность

• Спутниковые защитные слои поверхности

• Гиперзвуковые тепловые барьеры транспортных средств

• Интеграция внешнего слоя космического костюма

▷ Обработка полупроводников

• Носители пластинок для экстремальных условий

• Фильмы защиты от СВД

• Системы прокладки вакуумной камеры

▷ Промышленные инновации

• Поверхности робототехнических компонентов с высоким уровнем износа

• Материалы для диафрагмы химических процессов

• Склады защиты высокоточных подшипников

Техническое превосходство

Наноархитектурная поверхность

• Толщина пара-углерода: 50-500 нм (± 5%)

• Грубость поверхности: <1nm Ra (зеркальная отделка)

• Способность создавать образцы: Разрешение функций до микрона

Материальные свойства

• Толщина: 7,5-125 мкм (± 1%)

• Прочность на растяжение: 550 MPa (@25μm)

• Удлинение: 85% (@25μm)