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Aparição no cinema: | O material base deve alcançar a uniformidade da superfície em escala atômica, ao mesmo tempo em que | Espessura do filme (um): | 50 |
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Força de tração do filme: | 180 MPa | Alongamento do cinema no intervalo: | 30% |
Módulo de filmes Young: | 3.5GPa | Força de isolamento do filme: | 220V/μM |
Retardador de chama: | Nível V-0 | Condutividade térmica: | 1500 w/(mk) |
Destacar: | Película de imida de poliamida protetora quântica,Filtro nano-arquitetado de poliamida imida,Película de poliimida revestida de cobre quântico |
Este filme de poliimida GC50-X com aprimoramento quântico representa um avanço fundamental na engenharia de superfície, utilizandonanoestrutura de vapor multidimensionaleReforço de Diamoidóide confinado quânticopara alcançar70% maior dureza superficial(Dureza de lápis 12h) e65% melhorou a resistência ao desgasteversus filmes convencionais de grau GC50. A camada superficial nano-arquitetada fornece> 99,9% de eficiência da barreiracontra oxigênio atômico, umidade e corrosão química, mantendoflexibilidade totala mais de 2.000.000 de ciclos de dobra a 1 mm de raio.
1. Superformance Surface
Dureza da superfície: 12H Lápis dureza (ASTM D3363)
Resistência ao desgaste: Melhoria de 500% (abrasão de Taber, roda CS-10)
Coeficiente de atrito: 0,12 (redução de 80% vs. Pi padrão)
Energia superficial: 20-60 mn/m (dinamicamente sintonizável)
2. Excelência em barreira
Resistência ao oxigênio atômico: <0,1% de perda de massa @ 10²⁰ átomos/cm²
Barreira de umidade: <10⁻⁶ g/m²/dia a 38 ° C/90% RH
Imunidade química: Resiste a ácidos concentrados, solventes e álcalis
Estabilidade UV:> 50.000 horas de clima
3. Superioridade elétrica
Resistividade da superfície: 10¹⁵-10 bra
Força dielétrica: 8,2 kV/mm a 25μm
Resistividade de volume: 10 ω · cm a 200 ° C
4. Dominância térmica
Operação contínua: -269 ° C a 480 ° C
Condutividade térmica: 1,5 w/m · k (no plano)
Cte: 5,2 ppm/° C (20-200 ° C)
▷ Aeroespacial e defesa
Camadas de proteção de superfície de satélite
Barreiras térmicas de veículos hipersônicos
Integração da camada externa do terno espacial
▷ Processamento de semicondutores
Portadores de wafer de ambiente extremo
CVD Process Protection Films
Sistemas de revestimento da câmara a vácuo
▷ Inovação industrial
Superfícies de componentes robóticos de alto desgaste
Materiais de diafragma do processo químico
Camadas de proteção de rolamento de precisão
Superfície nano-arquitetada
Espessura de vapor-carbono: 50-500nm (± 5%)
Rugosidade da superfície: <1nm RA (acabamento espelhado)
Capacidade de padronização: Resolução do recurso Sub-Micron
Propriedades do material
Grossura: 7.5-125μm (± 1%)
Resistência à tracção: 550 MPa (@25μm)
Alongamento: 85% (@25μm)
Pessoa de Contato: Jihao
Telefone: +86 18755133999
Fax: 86-0551-68560865