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Filmauftritt: | Das Substrat muss die Planarität auf Nanometerebene aufrechterhalten und gleichzeitig ein vollständi | Filmdicke: | 25 μm |
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Film Zugkraft: | 480mpa | Filmdehnung bei Break: | 40% |
Film Young's Modul: | 7gpa | Filmisolierung Stärke: | 350 V/μm |
Filmfeuchtigkeitsabsorption: | 1425 kg/m³ | Thermalschrumpfung von Film (200 ° , 2H): | 0,04% |
Filmlinearer Expansionskoeffizient: | 8ppm | Filmfeuchtigkeitsabsorptionsrate: | 1,8% |
Hervorheben: | Thermostabile Dielektrische Folie,ODM-Dielektrische Folie,Thermostabiles Polyimidmaterial |
Dieses hochleistungsfähige Substrat, das durch modernste molekulare Technik entwickelt wurde, bietet eine beispiellose strukturelle Haltbarkeit, dielektrische Festigkeit und thermische Beständigkeit.Seine außergewöhnliche Oberflächenverträglichkeit garantiert eine fehlerfreie Integration in Präzisionsbauten, während sie vollständige internationale Umweltverträglichkeitszertifizierungen (RoHS/REACH) und UL-Sicherheitsvalidierung für den weltweiten Einsatz tragen.
Die GL-Klasse Polyimid-Matrizen dienen als Schlüssel-Substrat für die kommenden Elektronik-Generationen und bieten systemwesentliche Leistungskriterien für:1) Flexible Schaltkreiskonstruktionen mit Submikron Toleranz, 2) dimensionell unveränderliche Barriereüberlagkonfigurationen, 3) hochmoderne Ökosysteme für Halbleiterverkapselung,und 4) funktionstüchtige Klebebandsysteme mit individuell angepassten viskoelastischen Profilen.
Ansprechpartner: Jihao
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