Startseite ProduktePolyimid-Dünnschicht

Amber geborene Polyamid-Imid-Kohlenstoffbarriere mit hoher Reinheit

Bescheinigung
CHINA Hefei Guofeng Advanced Basic Materials Technology Co., Ltd. zertifizierungen
Kunden-Berichte
Wir schätzen ihren Enthusiasmus für Innovation und Kommunikation — er hat unser Projekt auf ein höheres Niveau gehoben.

—— DNP

Ihr Kundendienst reagierte blitzschnell—Probleme wurden umgehend gelöst, was die Zusammenarbeit reibungslos gestaltete!

—— Itochu Corporation

Ich bin online Chat Jetzt

Amber geborene Polyamid-Imid-Kohlenstoffbarriere mit hoher Reinheit

Amber Borne Polyamide Imide Sheet Carbon Barrier Nano Engineered High Purity
Amber Borne Polyamide Imide Sheet Carbon Barrier Nano Engineered High Purity Amber Borne Polyamide Imide Sheet Carbon Barrier Nano Engineered High Purity

Großes Bild :  Amber geborene Polyamid-Imid-Kohlenstoffbarriere mit hoher Reinheit

Produktdetails:
Herkunftsort: CHINA
Markenname: Guofeng
Zertifizierung: UL ISO ROHS
Modellnummer: 7.5um
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: Verhandlung
Preis: $300-$30000
Verpackung Informationen: Standardverpackung
Lieferzeit: Verhandlung
Zahlungsbedingungen: L/c, t/t
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: Verhandlung
Kontakt Plaudern Sie Jetzt

Amber geborene Polyamid-Imid-Kohlenstoffbarriere mit hoher Reinheit

Beschreibung
Länge: Anpassbar Oberflächenbeschaffung: Glatt
Elektrische Isolierung: Hoch Flexibilität: Hoch
Breite: 5 bis 1000 mm Chemischer Widerstand: Exzellent
Transparenz: Transparent Farbe: Bernstein
Material: Polyimid Mechanische Stärke: Stark
UV -Widerstand: Hoch Haftung: Gut
Dicke: 0,5-10 Mikrometer Temperaturwiderstand: Bis zu 500 ° C.
Hervorheben:

Polyamidimidbleche

,

getragen

,

Nanotechnologische Polyamidimidfolie

Die materielle Revolution

Dieses Quantum-CarbonTM-Polyimid-Verbundwerkzeug stellt einen grundlegenden Durchbruch in der Barrieretechnologie dar.mit einer Breite von mehr als 20 mm,undGraphen-NanokristallverstärkungErreichen990,9995% Reinheit Kohlenstoffbarrierenmit80% höhere Sperrwirksamkeitund70% verbesserte mechanische FestigkeitDie nanotechnologische Kohlenstoffmatrix bietet< 10−7 g/m2/Tag WasserdampfübertragungsratenundNull nachweisbare Gasdurchlässigkeitbei gleichzeitiger Aufrechterhaltungvolle Flexibilitätbis 5,000,000+ Biegezyklen bei 0,5 mm Radius.


Quantenleistung Matrix

1- Barriereherrschaft.

  • Wasserdampfbarriere: < 5×10−8 g/m2/Tag @ 38°C/90% Feuchtigkeit

  • Sauerstoffbarriere: < 10−5 cm3/m2/Tag @ 23°C/0% RE

  • Heliumbarriere: < 10-9 cm3/m2/Tag @ 25°C

  • Organische Dampfblockade: 100% Wirksamkeit gegen Lösungsmittel und Säuren

2Mechanische Exzellenz

  • Zugfestigkeit: 680 MPa (@ Dicke 25 μm)

  • Verlängerung beim Bruch: 95%

  • Oberflächenhärte: 9H Bleistifthärte

  • Ausdauer verbreiten: > 5,000,000 Zyklen @ 0,5 mm Radius

3Elektrische Überlegenheit.

  • Oberflächenwiderstand: 1014-1019 Ω/m2 (verstellbar)

  • Dielektrische Festigkeit: 9,8 kV/mm @ 25μm

  • Volumenwiderstand: 1018 Ω·cm @ 250°C

4. thermische Dominanz

  • Dauerbetrieb: -269°C bis 520°C

  • Wärmeleitfähigkeit: 2,8 W/m·K (durchlässig)

  • CTE: 3,5 ppm/°C (20-300°C)


Fortgeschrittene Anwendungen

▷ Quantentechnik

  • Verkapselung von Quantenrechenkomponenten

  • Qubit-Schutzschranken

  • Kryogene elektronische Verpackungen

▷ Advanced Packaging für Halbleiter

  • 3D-Chip-Stackungsfeuchtigkeitsbarrieren

  • Verpackungsschutz auf Waferebene

  • Heterogene Integrationsschnittstellen

▷ Energiespeichersysteme

  • Festkörperbatterie-Trennschranken

  • Schutzschichten der Brennstoffzellenmembran

  • Systeme zur Verkapselung von Superkondensatoren

▷ Luftfahrt und Verteidigung

  • Satellitenfeuchtigkeitsschutzbarrieren

  • Verkapselung der Mars-Missionsausrüstung

  • Hyperschallfahrzeugthermische Steuerung


Technische Überlegenheit

Nano-Kohlenstoff-Architektur

  • Kohlenstoffschichtdicke: 20 bis 200 nm (± 2%)

  • Oberflächenrauheit: < 0,5 nm Ra

  • Fähigkeit, Muster zu setzen: Auflösung von 100 nm

Materielle Eigenschaften

  • Stärke: 5 bis 150 μm (± 0,5%)

  • Dichte: 1,42 g/cm3

  • Lichtübertragung: < 0,01% (200-800 nm)


Konkurrenzherrschaft

Dieser Quantum-CarbonTM Film definiert den Barriere-Schutz durch vier revolutionäre Fortschritte neu:

1. Quantenausgerichtete Kohlenstoffstrukturen
Kohlenstoff-Ausrichtung auf atomarer Ebene für perfekte Barriere-Kontinuität

2. Nanocrystal Verstärkung
Graphen-Quantenpunkt-Verstärkte Schnittstellenfestigkeit

3Selbstheiler Barriere-Technologie
Automatische Reparatur von Defekten auf Nanobereichsebene

4Mehrdimensionaler Schutz
Gleichzeitiger Schutz vor Feuchtigkeit, Gas und Chemikalien

 
 

 

Produktbilder

 

Amber geborene Polyamid-Imid-Kohlenstoffbarriere mit hoher Reinheit 0Amber geborene Polyamid-Imid-Kohlenstoffbarriere mit hoher Reinheit 1

 

 

 

 

 

 


 

Handhabungs- und Aufbewahrungsanweisungen

 
Um die Langlebigkeit und Leistungsfähigkeit unseres Polyimidfilms zu gewährleisten, beachten Sie bitte folgende Richtlinien:
 

  • Haltbarkeit:6 Monate ab Herstellungsdatum.
  • Aufbewahrung:

· An einem kühlen, trockenen Ort vor direktem Sonnenlicht lagern.
• Vermeiden Sie eine hohe Luftfeuchtigkeit oder extreme Temperaturschwankungen.
      

Tags: 

Polyimidfolie  

Kontaktdaten
Hefei Guofeng Advanced Basic Materials Technology Co., Ltd.

Ansprechpartner: Jihao

Telefon: +86 18755133999

Faxen: 86-0551-68560865

Senden Sie Ihre Anfrage direkt an uns (0 / 3000)