Kwazowa ekranowana plastikowa folia z taśmy izolacyjnej z poliamidu, nanokompozytowy podkład

Architektura materiału wzmocniona kwantowo

GL-25(C) reprezentuje fundamentalny przełom w technologii podłoży wysokotemperaturowych, wykorzystując matryce polimerowe wzmocnione kropkami kwantowymi i wielowymiarowe wyrównanie nanoceramiczne, aby osiągnąć 50% lepszą wytrzymałość termiczną i 55% zwiększoną niezmienność wymiarową w porównaniu z konwencjonalnymi podłożami polimidowymi. Zaprojektowane za pomocą zastrzeżonej technologii samoorganizacji molekularnej, to podłoże zachowuje zerową degradację w temperaturze 600°C w trybie ciągłym i wytrzymuje skoki termiczne do 580°C przez dłuższy czas, wyznaczając nowe standardy ochrony elektroniki w ekstremalnych warunkach.

Rewolucyjna Matryca Wydajności

1. Superwydajność termiczna

• Praca ciągła w temperaturze 400°C z odpornością szczytową 600°C

• Próg rozkładu termicznego przekraczający 620°C

• Prawie zerowy CTE (1,8-2,2 ppm/°C) od -269°C do 500°C

2. Kwantowe właściwości elektryczne

• Wytrzymałość dielektryczna ≥9,0 kV/mm w temperaturze 300°C

• Rezystywność powierzchniowa >10¹⁹ Ω/sq po 3000h w temperaturze 250°C

• Skuteczność ekranowania EMI >70 dB (1-40 GHz)

3. Dominacja mechaniczna

• Wytrzymałość na rozciąganie >320 MPa z wydłużeniem >95%

• Odporność na rozdarcie o 800% wyższa niż w przypadku standardowych podłoży

• Wytrzymuje 5 000 000 cykli zginania przy promieniu 0,3 mm

4. Odporność na środowisko

• Wytrzymuje dawkę promieniowania 10⁸ Gy

• Brak degradacji wydajności w nasyconej parze wodnej (120°C/100% RH)

• Odporność chemiczna na wszystkie znane rozpuszczalniki i kwasy

Zastosowania klasy kwantowej

▷ Systemy eksploracji kosmosu

• Izolacja rdzenia komputera kwantowego

• Warstwy ekranowania przed promieniowaniem satelitarnym

• Ochrona elektroniki łazika marsjańskiego

▷ Infrastruktura rewolucji energetycznej

• Izolacja pierwszej ściany reaktora termojądrowego

• Warstwy separacyjne baterii kwantowych

• Bariery ogniw wodorowych

▷ Zaawansowane obliczenia

• Dielektryk międzypowłokowy 3D chip stacking

• Warstwy prowadnic światła w komputerach fotonicznych

• Izolacja w obliczeniach kriogenicznych

Rewolucja produkcyjna

Produkcja nano-precyzyjna

• Kontrola grubości osadzania warstwa po warstwie atomowej (±0,1μm)

• Kontrola zanieczyszczeń na poziomie kwantowym (<0,1 ppb)

• Zautomatyzowana kontrola optyczna z rozpoznawaniem wad AI

Możliwości dostosowywania

• Zakres grubości: 5-200μm z jednorodnością ±0,5%

• Niestandardowa stała dielektryczna: 2,5-4,5 (±0,02)

• Inżynieria energii powierzchniowej: 30-70 dyn/cm

Przewaga konkurencyjna

GL-25(C) przełamuje wszystkie konwencjonalne limity wydajności dzięki swojej architekturze wzmocnionej kwantowo. Tam, gdzie tradycyjne podłoża stają w obliczu nieuniknionych kompromisów między stabilnością termiczną, elastycznością mechaniczną i wydajnością elektryczną, nasza technologia ekranowania kwantowego zapewnia jednoczesną poprawę wszystkich parametrów, wprowadzając jednocześnie bezprecedensową odporność na promieniowanie i trwałość środowiskową.