Nastro isolante elettrico in poliammide plastico schermato quantistico, film, substrato nanocomposito

Architettura dei materiali quantisticamente potenziata

Il GL-25 ((C) rappresenta una svolta fondamentale nella tecnologia dei substrati ad alta temperatura,incorporando matrici polimeriche rinforzate con punti quantici e allineamento nanoceramico multidimensionale per ottenere50% di resistenza termica superiore- eInvarianza dimensionale aumentata del 55%Questo substrato, progettato con una tecnologia di autoassemblaggio molecolare proprietaria, mantienedegradazione zeroa 600°C di funzionamento continuo e resistente a picchi termici di 580°C per lunghe durate, stabilendo nuovi standard per la protezione dell'elettronica in ambienti estremi.

Matrice di performance rivoluzionaria

1. Superprestazioni termiche

• Funzionamento continuo a 400°C con resistenza massima di 600°C

• soglia di decomposizione termica superiore a 620°C

• CTE quasi zero (1,8-2,2 ppm/°C) da -269°C a 500°C

2. Proprietà elettriche quantistiche

• Resistenza dielettrica ≥ 9,0 kV/mm a 300°C

• Resistenza superficiale > 1019 Ω/q dopo 3000h @ 250°C

• Effetto di schermatura EMI > 70 dB (1-40 GHz)

3Dominanza meccanica

• Resistenza alla trazione > 320 MPa con allungamento > 95%

• Resistenza alla rottura 800% superiore ai substrati standard

• Resiste a 5,000,000 cicli di flessione a raggio di 0,3 mm

4. Invulnerabilità ambientale

• Resiste a una dose di radiazioni di 108 Gy.

• Degradazione zero delle prestazioni in vapore saturo (120°C/100% RH)

• Immunità chimica a tutti i solventi e acidi noti

Applicazioni a livello quantistico

▷ Sistemi di esplorazione spaziale

• Isolamento del nucleo di calcolo quantistico

• Strati di protezione dalle radiazioni satellitari

• Protezione elettronica del rover su Marte

▷ Infrastrutture per la rivoluzione energetica

• Isolamento della prima parete del reattore a fusione

• Strati di separazione delle batterie quantistiche

• Barriere per celle ad energia di idrogeno

▷ Informatica avanzata

• Dielettrico interstrato di impilamento a chip 3D

• Strati di guida luminosa per il calcolo fotonico

• Isolamento per calcolo criogenico

Rivoluzione industriale

Produzione di nano-precisione

• Controllo dello spessore di deposizione dello strato atomico (± 0,1 μm)

• Controllo delle impurità a livello quantistico (<0,1 ppb)

• Ispezione ottica automatizzata con riconoscimento difetto IA

Capacità di personalizzazione

• Intervallo di spessore: 5-200 μm con uniformità ±0,5%

• Costante dielettrica personalizzata: 2,5-4,5 (±0,02)

• Ingegneria energetica superficiale: 30-70 dynes/cm

Supremità competitiva

Il GL-25C infrange tutti i limiti delle prestazioni convenzionali grazie alla sua architettura quantistica.flessibilità meccanica, e prestazioni elettriche, la nostra tecnologia a schermo quantistico offre miglioramenti simultanei in tutti i parametri introducendo una resistenza alle radiazioni senza precedenti e durabilità ambientale.