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फिल्म उपस्थिति: | सब्सट्रेट को अपने पूरे कार्यात्मक क्षेत्र में टोपोलॉजिकल दोषों, पार्टिकुलेट इंक्लूज़ेशन, पॉलिमेरिक ए | फिल्म की मोटाई: | 25μM |
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फिल्म तन्य शक्ति: | 480MPA | ब्रेक पर फिल्म बढ़ाव: | 40% |
फिल्म यंग का मापांक: | 7 जीपीए | फिल्म इन्सुलेशन शक्ति: | 350V/μM |
फिल्म नमी अवशोषण: | 1425 किग्रा/मील | फिल्म थर्मल संकोचन (200 °) 2 एच): | 0.04% |
फिल्म रैखिक विस्तार गुणांक: | 8ppm | फिल्म नमी अवशोषण दर: | 1.8% |
प्रमुखता देना: | पॉलीमाइड इलेक्ट्रिकल इंसुलेशन टेप फिल्म,नैनो पॉलीमाइड इलेक्ट्रिकल इंसुलेशन टेप,नैनो पॉलीमाइड प्लास्टिक फिल्म |
क्वांटम-स्किल्ड GL-25 ((C) चरम-पर्यावरण नैनो-संमिश्रण सब्सट्रेट
GL-25 ((C) उच्च तापमान सब्सट्रेट प्रौद्योगिकी में एक मौलिक सफलता का प्रतिनिधित्व करता है,प्राप्त करने के लिए क्वांटम डॉट-प्रबलित पोलीमर मैट्रिक्स और बहुआयामी नैनोकेरामिक संरेखण को शामिल करना50% बेहतर ताप प्रतिरोधऔर55% बढ़ाया आयामी स्थिरतापारंपरिक पॉलीमाइड सब्सट्रेट के मुकाबले। स्वामित्व वाली आणविक स्व-विधानसभा तकनीक के माध्यम से इंजीनियर, यह सब्सट्रेट बनाए रखता हैशून्य विघटन600 डिग्री सेल्सियस पर निरंतर संचालन और 580 डिग्री सेल्सियस के थर्मल स्पाइक्स को लंबे समय तक सहन करता है, जो चरम वातावरण इलेक्ट्रॉनिक्स सुरक्षा के लिए नए मानक स्थापित करता है।
1थर्मल सुपरपरफॉर्मेंस
600 डिग्री सेल्सियस पीक प्रतिरोध के साथ 400 डिग्री सेल्सियस पर निरंतर संचालन
थर्मल अपघटन की सीमा 620°C से अधिक
-269°C से 500°C तक लगभग शून्य सीटीई (1.8-2.2 पीपीएम/°C)
2क्वांटम विद्युत गुण
300 डिग्री सेल्सियस पर डाईलेक्ट्रिक ताकत ≥ 9.0 kV/मिमी
सतह प्रतिरोध >1019 Ω/sq 3000h @250°C के बाद
ईएमआई परिरक्षण प्रभावकारिता > 70 डीबी (1-40 जीएचजेड)
3यांत्रिक प्रभुत्व
तन्यता शक्ति > 320 एमपीए के साथ > 95% बढ़ाव
मानक सब्सट्रेट की तुलना में 800% अधिक आंसू प्रतिरोध
5 प्रतिरोध करता है,000,000 फ्लेक्स चक्र 0.3 मिमी त्रिज्या पर
4पर्यावरणीय असुरक्षितता
108 Gy विकिरण खुराक का सामना करता है
संतृप्त भाप (120°C/100% आरएच) में प्रदर्शन में शून्य गिरावट
सभी ज्ञात सॉल्वैंट्स और एसिड के प्रति रासायनिक प्रतिरक्षा
▷ अंतरिक्ष अन्वेषण प्रणाली
क्वांटम कंप्यूटिंग कोर अलगाव
उपग्रह विकिरण परिरक्षण परतें
मार्स रोवर इलेक्ट्रॉनिक सुरक्षा
ऊर्जा क्रांति के बुनियादी ढांचे
संलयन रिएक्टर की पहली दीवार का इन्सुलेशन
क्वांटम बैटरी पृथक्करण परतें
हाइड्रोजन ऊर्जा सेल बाधाएं
▷ उन्नत कम्प्यूटिंग
थ्रीडी चिप स्टैकिंग इंटरलेयर डायलेक्ट्रिक
फोटोनिक कम्प्यूटिंग लाइट गाइड परतें
क्रायोजेनिक कम्प्यूटिंग इन्सुलेशन
नैनो-सटीक उत्पादन
परमाणु परत जमाव मोटाई नियंत्रण (± 0,1μm)
क्वांटम स्तर की अशुद्धता नियंत्रण (<0.1 ppb)
एआई दोष पहचान के साथ स्वचालित ऑप्टिकल निरीक्षण
अनुकूलन क्षमताएं
मोटाई सीमाः ±0.5% एकरूपता के साथ 5-200μm
कस्टम डायलेक्ट्रिक स्थिरः 2.5-4.5 (±0.02)
सतह ऊर्जा इंजीनियरिंगः 30-70 डायनेस/सेमी
GL-25 ((C) अपनी क्वांटम-बढ़ती वास्तुकला के माध्यम से सभी पारंपरिक प्रदर्शन सीमाओं को तोड़ता है। जहां पारंपरिक सब्सट्रेट थर्मल स्थिरता के बीच अपरिहार्य व्यापार-बंद का सामना करते हैं,यांत्रिक लचीलापन, और विद्युत प्रदर्शन, हमारी क्वांटम-बचत तकनीक एक साथ सभी मापदंडों में सुधार प्रदान करती है जबकि अभूतपूर्व विकिरण प्रतिरोध और पर्यावरण स्थायित्व पेश करती है.
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