Квантово-экранированная пластиковая полиимидная электроизоляционная лента-пленка нанокомпозитная подложка

Квантово-улучшенная архитектура материала

GL-25(C) представляет собой фундаментальный прорыв в технологии высокотемпературных подложек, включающий полимерные матрицы, армированные квантовыми точками, и многомерное нанокерамическое выравнивание для достижения на 50% превосходной термической стойкости и на 55% улучшенной инвариантности размеров по сравнению с обычными полиимидными подложками. Разработанная с использованием запатентованной технологии молекулярной самосборки, эта подложка поддерживает нулевую деградацию при непрерывной работе при 600°C и выдерживает температурные скачки до 580°C в течение длительного времени, устанавливая новые стандарты защиты электроники в экстремальных условиях.

Революционная матрица производительности

1. Превосходные термические характеристики

• Непрерывная работа при 400°C с пиковой устойчивостью до 600°C

• Порог термического разложения превышает 620°C

• Почти нулевой CTE (1,8-2,2 ppm/°C) от -269°C до 500°C

2. Квантовые электрические свойства

• Диэлектрическая прочность ≥9,0 кВ/мм при 300°C

• Поверхностное сопротивление >10¹⁹ Ω/кв после 3000 часов при 250°C

• Эффективность экранирования ЭМИ >70 дБ (1-40 ГГц)

3. Механическое превосходство

• Прочность на растяжение >320 МПа с удлинением >95%

• Сопротивление разрыву на 800% выше, чем у стандартных подложек

• Выдерживает 5 000 000 циклов изгиба при радиусе 0,3 мм

4. Экологическая неуязвимость

• Выдерживает дозу радиации 10⁸ Гр

• Нулевая деградация производительности в насыщенном паре (120°C/100% относительной влажности)

• Химическая устойчивость ко всем известным растворителям и кислотам

Применения квантового уровня

▷ Системы исследования космоса

• Изоляция ядра квантовых вычислений

• Слои радиационной защиты спутников

• Защита электроники марсоходов

▷ Инфраструктура энергетической революции

• Изоляция первой стенки термоядерного реактора

• Разделительные слои квантовых батарей

• Барьеры для водородных энергетических ячеек

▷ Передовые вычисления

• Межслойный диэлектрик для 3D-стекирования чипов

• Слои световодов для фотонных вычислений

• Криогенная изоляция вычислений

Революция производства

Нано-прецизионное производство

• Контроль толщины методом атомно-слоевого осаждения (±0,1μм)

• Контроль примесей на квантовом уровне (<0,1 ppb)

• Автоматизированный оптический контроль с распознаванием дефектов с помощью ИИ

Возможности настройки

• Диапазон толщины: 5-200μм с однородностью ±0,5%

• Пользовательская диэлектрическая проницаемость: 2,5-4,5 (±0,02)

• Инженерия поверхностной энергии: 30-70 дин/см

Конкурентное превосходство

GL-25(C) разрушает все традиционные пределы производительности благодаря своей квантово-улучшенной архитектуре. Там, где традиционные подложки сталкиваются с неизбежными компромиссами между термической стабильностью, механической гибкостью и электрическими характеристиками, наша квантово-экранированная технология обеспечивает одновременное улучшение всех параметров, одновременно вводя беспрецедентную радиационную стойкость и экологическую долговечность.