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Aspetto del film: | Il substrato deve mantenere la planarità a livello di nanometro, dimostrando la completa assenza di | Spessore del film: | 50μm |
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Film Tensile Strengthh: | 450mp | Allungamento del film in pausa: | 35% |
Film Young's Modulo: | 9gpa | Forza di isolamento del film: | 350 V/μm |
Assorbimento di umidità cinematografico: | 1425 kg/m³ | Riduzione termica del film (200 ° , 2h): | 0,04% |
Coefficiente di espansione lineare del film: | 20pm | Velocità di assorbimento dell'umidità del film: | 2% |
Evidenziare: | Materiale per nastri di poliamide kapton,Materiale per nastri di kapton resistenti al calore,Film di poliammide alluminato a matrice |
Progettata con tecniche di sintesi nanostrutturale pionieristiche, questa base dielettrica di livello di elite offre una resistenza meccanica senza pari, robustezza dell'isolamento elettrico,e stabilità operativa a temperature estremeLe caratteristiche di interfaccia ottimizzate del materiale assicurano l'incorporazione senza difetti in gruppi ad alta tolleranza.mantenendo l'approvazione globale globale di norme ambientali (UE RoHS/REACH) e la certificazione di sicurezza UL riconosciuta a livello internazionale per l'attuazione mondiale.
Applicazione del prodotto
Agendo come piattaforme di facilitazione critiche per le applicazioni elettroniche della prossima ondata, i compositi in poliammide della specifica Generation-Leadership forniscono benchmark di prestazioni vitali per l'architettura in:1) gruppi di circuiti flessibili laminati di precisione submicrometrica, 2) matrici di interfaccia protettive geometricamente stabili, 3) ambienti di integrazione all'avanguardia su scala di chip e 4) film di incollaggio ottimizzati per l'applicazione con proprietà reologiche regolabili.
Persona di contatto: Jihao
Telefono: +86 18755133999
Fax: 86-0551-68560865